CONTRAST ARCHIVE

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Absences

ルイジ・オノラ

この度、3月4日(土)から3月19日(日)まで、東京を拠点に活動するフランス人ビジュアルアーティスト、ルイジ・オノラの個展「Absences」をCONTRASTにて開催致します。 オノラは武蔵野美術大学にて彫刻を学んだ後、現在は同大学で講師として務めながら、オブジェと3DCGをメディアとしたアートの研鑽に努め、コンピューターグラフィックを駆使して新たな彫刻のフォルムや動き、手法を探求。「現実と仮想」、「オブジェとデータ」、「美とある種の不気味さ」と様々な要素を組み合わせ、相互にリンクさせたインスタレーション、彫刻、映像作品を制作しています。 Apple、Adidas、L’Oréal、The New York Times等のブランドや、Moses Sumney、Son Lux's Ian Chang、Micka Luna、Variérasといったミュージシャンとの仕事でも知られています。 本展では、プリント、AR (拡張現実)、映像という異なる3つのメディアで構成されたデジタルスカルプチャーの新作シリーズを発表致します。プリントやARを通して、実際には存在しないデジタルスカルプチャーの体感を可能とし、映像作品ではそのフォルムが形成されていく一連の変化により、具象的なトルソーが溶けては消え、トランスフォームする過程から、「Absences (不在)」の概念を探求します。 また、会場ではARマーカーのプリント販売も行い、別空間で読み込む事により、空間と身体の関係にも問いを投げかけます。 これまでSNSを中心に活動してきたオノラの作品とリアルに対峙できる貴重な展示となります。是非この機会に、現実に存在するデジタルスカルプチャーによって埋め尽くされた「Absences (不在)」な世界をお楽しみ下さい。

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DOP/EDIT: Ryosuke Senda
DIRECTION : Taiju Nakajima (IN FOCUS)
PRODUCE : Masaki Fushimi (IN FOCUS)


PHOTO:Yoshinori Kataoka (IN FOCUS)

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DOP/EDIT: Ryosuke Senda
DIRECTION : Taiju Nakajima (IN FOCUS)
PRODUCE : Masaki Fushimi (IN FOCUS)


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Reflective Configuration

Hiroyuki Arikawa (WORKSHOP™)

この度、1月21日(土)から2月5日(日)までアーティストHiroyuki Arikawa (WORKSHOP™)の個展「Reflective Configuration」をCONTRASTにて開催致します。 Arikawaは桑沢デザイン研究所を卒業後、数社のアパレルブランドでの企画デザインを経て、2019年よりオブジェクト、什器制作と空間構成を主軸にした活動WORKSHOP™(ワークショップトレードマーク)を開始。2021年にはTOKYO DESIGN STUDIO New Balance / Apparel (東京デザインスタジオニューバランス/アパレル)のビジュアルを手掛け、主にアルミフレームやLED 蛍光灯、コードなどの工業用資材を用いた作品を制作。 展覧会タイトルである「Reflective Configuration」は「内省的構造」を意味し、作家自身が今まで忘れていた過去の感覚や記憶を辿り、視覚的、聴覚的情報をどう恣意的に記録、蓄積してきたかという“顕在化された記憶の変化”が原点になっています。そして、Arikawaが得意とするソリッドなオブジェクトに加え、ファッションに関する考察をテーマにしたものから、音やリズムのシークエンスなど視覚以外の構造を取り入れた作品を発表致します。 また、出版レーベルRondadeより今回の展示の為に制作した出版物も販売致します。 工業的な素材から構築された、Arikawaの記憶の数々を是非お楽しみ下さい。 協力:Rondade

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DIRECTION/ DOP/ EDIT : Taiju Nakajima (IN FOCUS)
PRODUCE : Masaki Fushimi (IN FOCUS)


PHOTO:Yoshinori Kataoka (IN FOCUS)

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DIRECTION/ DOP/ EDIT : Taiju Nakajima (IN FOCUS)
PRODUCE : Masaki Fushimi (IN FOCUS)


PHOTO:Yoshinori Kataoka (IN FOCUS)

Hiroyuki Arikawa (WORKSHOP™)

1978年東京都生まれ。東京学芸大学、桑沢デザイン研究所卒。 数社のアパレルブランドで企画デザインを担当。 2013年独立後アパレルブランドOH WELLを設立。併せて展示会用什器の製作を開始。 2019年 WORKSHOP™名義での制作活動を開始。 2021年 TOKYO DESIGN STUDIO New Balanceのアパレルラインのビジュアルディレクションとアートワークを担当。

About CONTRAST
2022年、東京·代々木八幡にクリエイティブスペースとしてオープン。築45年の躯体をベースとした内装は「再構築」をコンセプトに3つのフロアで構成され、「多様なデジタル表現を交差することにより新しい視点を提案する」をミッションに活動するデジタルブランディングスタジオ「IN FOCUS」によって運営されています。 CONTRASTはクリエイターに寄り添った広く開放されたスペースとして、枠に囚われず実験的、かつ利用者によって継続的に再構築されていく空間を目指します。 また、多くの表現に焦点を当て、それらを生み出すクリエイター達と出会い、その姿勢を知ることは私たちに 「CONTRAST = 対比」の重要性を気づかせてくれるでしょう。 Operated by IN FOCUS2022年、東京·代々木八幡にクリエイティブスペースとしてオープン。築45年の躯体をベースとした内装は「再構築」をコンセプトに3つのフロアで構成され、「多様なデジタル表現を交差することにより新しい視点を提案する」をミッションに活動するデジタルブランディングスタジオ「IN FOCUS」によって運営されています。 CONTRASTはクリエイターに寄り添った広く開放されたスペースとして、枠に囚われず実験的、かつ利用者によって継続的に再構築されていく空間を目指します。 また、多くの表現に焦点を当て、それらを生み出すクリエイター達と出会い、その姿勢を知ることは私たちに 「CONTRAST = 対比」の重要性を気づかせてくれるでしょう。 Operated by IN FOCUS

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